高能质子引起器件单粒子效应的研究方法


Autoria(s): 刘杰,侯明东,张庆祥,甑红楼,孙友梅,刘昌龙,王志光,朱智勇,金运范
Data(s)

30/12/2002

Resumo

简略介绍了高能质子在半导体芯片中引起单粒子效应的实验测量和理论分析方法,包括核反应分析方法、半经验方法,介绍了质子和重离子翻转截面间的关系,并用重离子实验数据预测器件在质子环境下的翻转率.

Identificador

http://ir.impcas.ac.cn/handle/113462/4303

http://www.irgrid.ac.cn/handle/1471x/131090

Idioma(s)

中文

Fonte

刘杰,侯明东,张庆祥,甑红楼,孙友梅,刘昌龙,王志光,朱智勇,金运范.高能质子引起器件单粒子效应的研究方法, 原子核物理评论, 2002-12-30, 2002( 04):411-415

Palavras-Chave #单粒子效应 #质子 #半导体器件
Tipo

期刊论文