~(40)Ar~(10+)轰击Al和Si固体表面形成的200~1000nm光谱


Autoria(s): 张小安,赵永涛,李福利,杨治虎,肖国青,詹文龙
Data(s)

15/06/2003

Resumo

报道了利用兰州重离子加速器国家实验室ECR离子源提供的高电荷态离子~(40)Ar~(10+)入射到Al和p型Si表面所产生的Al,Si,Ar原子的200~1000nm特征光谱的实验测量结果。结果表明,低速高电荷态离子与团体表面原子相互作用可有效地激发靶原子和靶离子的特征谱线,而且由于发射二次电子的无辐射退激与辐射光子退激过程的竞争,使得在p型Si表面上Ar原子的光谱强度总体大于在Al表面上的光谱强度。

Identificador

http://ir.impcas.ac.cn/handle/113462/4159

http://www.irgrid.ac.cn/handle/1471x/130871

Idioma(s)

中文

Fonte

张小安,赵永涛,李福利,杨治虎,肖国青,詹文龙.~(40)Ar~(10+)轰击Al和Si固体表面形成的200~1000nm光谱, 中国科学G辑:物理学、力学、天文学, 2003-06-15, 2003( 03):234-239

Palavras-Chave #高电荷态离子 #空心原子 #特征光谱 #光谱强度
Tipo

期刊论文