氮化碳薄膜的制备及研究现状


Autoria(s): 宋银,侯明东,王志光,赵志明,段敬来
Data(s)

25/12/2003

Resumo

氮化碳具有良好的物理、化学性质和广泛的应用前景。目前主要采用化学气相沉积法、离子束溅射法、激光等离子体沉积和激光烧蚀、离子镀、离子注入法等制备方法。文中对氮化碳的结构、性质、制备、性能表征以及研究现状进行了比较详细的介绍。

Identificador

http://ir.impcas.ac.cn/handle/113462/4005

http://www.irgrid.ac.cn/handle/1471x/130635

Idioma(s)

中文

Fonte

宋银,侯明东,王志光,赵志明,段敬来.氮化碳薄膜的制备及研究现状, 高压物理学报, 2003-12-25, 2003( 04):311-318

Palavras-Chave #氮化碳薄膜 #制备 #性能表征
Tipo

期刊论文