用于光刻的EUV光源
| Data(s) |
03/01/2007
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|---|---|
| Resumo |
对国际上普遍采用的两种EUV光源:放电等离子体源(DPP)和激光等离子体源(LPP)进行了多方面比较。给出了两种等离子体源各自优点及难以克服的困难。基于目前的测量结果,指出了ECR等离子体有潜力成为一种新型的极紫外辐射源。 |
| Identificador | |
| Idioma(s) |
中文 |
| Fonte |
赵环昱;赵红卫;.用于光刻的EUV光源, 半导体技术, 2007-01-03, 2007( 01):12-16 |
| Palavras-Chave | #光刻 #极紫外光源 #放电等离子 #激光等离子体 #ECR等离子体 |
| Tipo |
期刊论文 |
