低能高电荷态Ar~(q+)(q=12,13)离子诱发钼L壳层X射线强度的研究(英文)
| Data(s) |
25/08/2007
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| Resumo |
本文报导了低能高电荷态Arq+(q=12,13)离子诱发的钼L壳层X射线强度随入射粒子能量的变化趋势,研究表明当入射粒子能量高于220 keV时,钼L壳层X射线强度有明显增加的的趋势.同时,我们提出了一个简单的模型去估计这种趋势随入射能量的变化.模型计算的结果与实验值符合的比较好. |
| Identificador | |
| Idioma(s) |
中文 |
| Fonte |
徐进章;杜娟;徐徐;陈熙萌;胡碧涛;邵剑雄;崔莹;杨治虎;张红强;张毅;肖国青;张小安;王博宇;.低能高电荷态Ar~(q+)(q=12,13)离子诱发钼L壳层X射线强度的研究(英文), 原子与分子物理学报, 2007-08-25, 2007( 04):858-862 |
| Palavras-Chave | #L壳层X射线 #钼 #氩离子 #低能高电荷态 |
| Tipo |
期刊论文 |
