重离子径迹模板法电化学制备聚吡咯纳米线


Autoria(s): 陈艳峰; 刘杰; 姚会军; 莫丹; 段敬来; 侯明东; 孙友梅; 薛智浩; 张苓
Data(s)

20/09/2008

Resumo

采用蚀刻的聚碳酸酯(PC)离子径迹膜为模板,结合电化学沉积技术,制备出了直径为100~320 nm、长度从几μm到30μm的聚吡咯纳米线。利用场发射扫描电子显微镜(FESEM)、透射电子显微镜(TEM)对纳米线的形貌进行了表征。结果表明,所制备出的聚吡咯纳米线均呈圆柱形,且表面光滑、粗细一致。聚吡咯纳米线的紫外-可见(UV-Vis)光谱分析表明,随着聚吡咯纳米线直径增加,聚吡咯纳米线吸收峰展宽,且峰位向长波方向移动。

Identificador

http://ir.impcas.ac.cn/handle/113462/2337

http://www.irgrid.ac.cn/handle/1471x/128447

Idioma(s)

中文

Fonte

陈艳峰;刘杰;姚会军;莫丹;段敬来;侯明东;孙友梅;薛智浩;张苓;.重离子径迹模板法电化学制备聚吡咯纳米线, 原子能科学技术, 2008-09-20, 2008( S1):290-294

Palavras-Chave #聚吡咯纳米线 #离子径迹模板 #电化学沉积
Tipo

期刊论文