磁控溅射阴极靶磁场分布的定量评价


Autoria(s): 高方圆; 李光; 夏原
Data(s)

2010

Resumo

针对磁控溅射阴极靶磁场分布难以进行定量评价的问题,提出以磁场水平分量Bx的平行率Rk为量化指标,对磁场分布状态进行评价的新方法;采用有限元方法,模拟分析了磁控溅射阴极靶结构参数对磁场分布的影响规律,并利用Rk对结构参数的合理性进行了验证.结果表明,量化指标Rk可以有效地评价磁场分布的优劣,能够为磁场模拟及分析提供基础的科学判据

国家自然科学基金(10772179)

Identificador

http://dspace.imech.ac.cn/handle/311007/44006

http://www.irgrid.ac.cn/handle/1471x/124942

Idioma(s)

中文

Fonte

材料热处理学报.2010,31(12):153-157

Palavras-Chave #磁控溅射 #磁场分布 #结构参数 #平行率
Tipo

期刊论文