单甲基原位改性SiO2疏水减反膜的制备与性能研究

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Autoria(s): 张磊; 徐耀; 黄进; 蒋晓东; 吕海滨; 赵松楠; 吴东; 孙予罕; 魏晓峰

Data(s)	2006
Identificador	http://ir.sxicc.ac.cn/handle/0/1876 http://www.irgrid.ac.cn/handle/1471x/123310
Idioma(s)	中文
Fonte	张磊,徐耀,黄进,蒋晓东,吕海滨,赵松楠,吴东,孙予罕,魏晓峰.单甲基原位改性SiO2疏水减反膜的制备与性能研究.强激光与粒子束,2006,18(10):1648-1652
Tipo	期刊论文