规则SiO2颗粒的超临界合成

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Autoria(s): 张晔; 吴东; 孙予罕; 彭少逸

Data(s)	2002
Identificador	http://ir.sxicc.ac.cn/handle/0/1025 http://www.irgrid.ac.cn/handle/1471x/121804
Idioma(s)	中文
Fonte	张晔,吴东,孙予罕,彭少逸.规则SiO2颗粒的超临界合成.中国粉体技术,2002,8(2):1-2
Tipo	期刊论文