疏水增透SiO2膜的制备及其性能研究

---

Autoria(s): 张晔; 吴东; 孙予罕; 彭少逸

Data(s)	2002
Identificador	http://ir.sxicc.ac.cn/handle/0/1024 http://www.irgrid.ac.cn/handle/1471x/121802
Idioma(s)	中文
Fonte	张晔,吴东,孙予罕,彭少逸.疏水增透SiO2膜的制备及其性能研究.物理化学学报,2002,18(4):355-358
Tipo	期刊论文