高比表面积窄孔分布氧化铝的制备. II: 添加硅的影响

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Autoria(s): 杜明仙; 翟效珍; 李源; 李林东; 朱华青; 谭长瑜

Data(s)	2002
Identificador	http://ir.sxicc.ac.cn/handle/0/1006 http://www.irgrid.ac.cn/handle/1471x/121769
Idioma(s)	中文
Fonte	杜明仙,翟效珍,李源,李林东,朱华青,谭长瑜.高比表面积窄孔分布氧化铝的制备. II: 添加硅的影响.催化学报,2002,23(5):469-472
Tipo	期刊论文