PEG200改性SiO2溶胶制备光学增透膜的研究

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Autoria(s): 孙继红; 范文浩; 章斌; 吴东; 孙予罕

Data(s)	1999
Identificador	http://ir.sxicc.ac.cn/handle/0/577 http://www.irgrid.ac.cn/handle/1471x/120962
Idioma(s)	中文
Fonte	孙继红,范文浩,章斌,吴东,孙予罕.PEG200改性SiO2溶胶制备光学增透膜的研究.光学技术,1999,5:16-18, 21
Tipo	期刊论文