PEG分子量和温度对SiO2溶胶及光学增透膜的影响

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Autoria(s): 孙继红; 范文浩; 徐耀; 吴东; 孙予罕

Data(s)	1999
Identificador	http://ir.sxicc.ac.cn/handle/0/512 http://www.irgrid.ac.cn/handle/1471x/120840
Idioma(s)	中文
Fonte	孙继红,范文浩,徐耀,吴东,孙予罕.PEG分子量和温度对SiO2溶胶及光学增透膜的影响.硅酸盐通报,1999,5:3-6
Tipo	期刊论文