铬硅化物的形成及其界面反应


Autoria(s): 丁孙安; 许振嘉; 李宝骐; 周一峰
Data(s)

1990

Resumo

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国家自然科学基金

中科院半导体所;中国科学技术大学

国家自然科学基金

Identificador

http://ir.semi.ac.cn/handle/172111/20507

http://www.irgrid.ac.cn/handle/1471x/104891

Idioma(s)

中文

Fonte

丁孙安;许振嘉;李宝骐;周一峰.铬硅化物的形成及其界面反应,半导体学报,1990,11(12):906

Palavras-Chave #半导体材料
Tipo

期刊论文