Ce-Si多层膜中铈硅化物的形成


Autoria(s): 何杰; 许振嘉; 钱家骏; 王玉田; 王佑祥
Data(s)

1990

Resumo

国家自然科学基金

Identificador

http://ir.semi.ac.cn/handle/172111/20501

http://www.irgrid.ac.cn/handle/1471x/104888

Idioma(s)

中文

Fonte

何杰;许振嘉;钱家骏;王玉田;王佑祥.Ce-Si多层膜中铈硅化物的形成,半导体学报,1990,11(12):946

Palavras-Chave #半导体材料
Tipo

期刊论文