Er~+注入单晶硅中非晶层晶化过程的TEM研究


Autoria(s): 严勇; 王培大; 胡梅生; 孙慧龄; 李齐; 冯端
Data(s)

1990

Resumo

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南京大学;中科院半导体所;中科院微电子中心

Identificador

http://ir.semi.ac.cn/handle/172111/20459

http://www.irgrid.ac.cn/handle/1471x/104867

Idioma(s)

中文

Fonte

严勇;王培大;胡梅生;孙慧龄;李齐;冯端.Er~+注入单晶硅中非晶层晶化过程的TEM研究,半导体学报,1990,11(7):561

Palavras-Chave #半导体材料
Tipo

期刊论文