采用CH4/H2混合气对InP进行反应离子腐蚀的研究

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Autoria(s): 李建中; 陈纪瑛

Data(s)	1991
Identificador	http://ir.semi.ac.cn/handle/172111/20331 http://www.irgrid.ac.cn/handle/1471x/104803
Idioma(s)	中文
Fonte	李建中;陈纪瑛.采用CH4/H2混合气对InP进行反应离子腐蚀的研究,半导体学报,1991,12(4):231
Palavras-Chave	#半导体化学
Tipo	期刊论文