Pt/Si界面反应与肖特基势垒形成的研究


Autoria(s): 丁孙安; 许振嘉
Data(s)

1993

Resumo

详细研究了Pt/Si和Pt硅化物/Si界面的反应性质、原子结构及杂质/缺陷分布,讨论了它们对肖特基势垒的形成、势垒特性和势垒高度的影响。

国家自然科学基金

Identificador

http://ir.semi.ac.cn/handle/172111/20073

http://www.irgrid.ac.cn/handle/1471x/104674

Idioma(s)

中文

Fonte

丁孙安;许振嘉.Pt/Si界面反应与肖特基势垒形成的研究,红外与毫米波学报,1993,12(5):385

Palavras-Chave #半导体物理
Tipo

期刊论文