CoSi2薄膜形成过程中的反应机制
| Data(s) |
1994
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|---|---|
| Resumo |
于2010-11-23批量导入 zhangdi于2010-11-23 13:14:43导入数据到SEMI-IR的IR Made available in DSpace on 2010-11-23T05:14:43Z (GMT). No. of bitstreams: 1 6088.pdf: 526948 bytes, checksum: 86537d17dee87c515ff483d9b945e4c3 (MD5) Previous issue date: 1994 国家自然科学基金 中科院半导体所 国家自然科学基金 |
| Identificador | |
| Idioma(s) |
中文 |
| Fonte |
何杰;顾诠;陈维德;许振嘉.CoSi2薄膜形成过程中的反应机制,半导体学报,1994,15(8):544 |
| Palavras-Chave | #半导体材料 |
| Tipo |
期刊论文 |
