在微重力下生长的GaAs:Si单晶结构缺陷的X射线研究


Autoria(s): 蒋四南; 林兰英
Data(s)

1995

Resumo

对空间生长GaAs:Si单晶,沿着生长方向用X射线形貌和双晶衍射方法进行了研究,X射线形貌观测到了在空间生长区域有一个扇形高完整区。双晶衍射表明,在这个扇形区回摆曲线最窄、强度较高。

Identificador

http://ir.semi.ac.cn/handle/172111/19885

http://www.irgrid.ac.cn/handle/1471x/104580

Idioma(s)

中文

Fonte

蒋四南;林兰英.在微重力下生长的GaAs:Si单晶结构缺陷的X射线研究,半导体学报,1995,16(3):167

Palavras-Chave #半导体材料
Tipo

期刊论文