研究半导体超晶格界面粗糙的X射线双晶Pendellosung方法


Autoria(s): 庄岩; 王玉田; 潘士宏
Data(s)

1995

Resumo

运用高精度X射线双晶衍射仪对GeSe/Si应变超晶格进行了分析研究,实验上观测到在卫星峰之间存在着干涉条纹(Pendellosung)。建立了界面的随机概率模型,结合计算机模拟发现: Pendellosung条纹对界面的粗糙十分敏感,当界面粗糙度较小时,只影响Pendellosung条纹的规则排列,而当粗糙度较大时,不仅使Pendellosung条纹强度下降,规则排列受到破坏,并且还将导致高级卫星峰强度下降,峰形严重宽化。

运用高精度X射线双晶衍射仪对GeSe/Si应变超晶格进行了分析研究,实验上观测到在卫星峰之间存在着干涉条纹(Pendellosung)。建立了界面的随机概率模型,结合计算机模拟发现: Pendellosung条纹对界面的粗糙十分敏感,当界面粗糙度较小时,只影响Pendellosung条纹的规则排列,而当粗糙度较大时,不仅使Pendellosung条纹强度下降,规则排列受到破坏,并且还将导致高级卫星峰强度下降,峰形严重宽化。

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中科院半导体所;南开大学物理系

Identificador

http://ir.semi.ac.cn/handle/172111/19741

http://www.irgrid.ac.cn/handle/1471x/104508

Idioma(s)

中文

Fonte

庄岩;王玉田;潘士宏.研究半导体超晶格界面粗糙的X射线双晶Pendellosung方法,物理学报,1995,44(7):1073

Palavras-Chave #半导体物理
Tipo

期刊论文