应变异质结外延材料的缓冲层厚度与Frank-Read源的关系研究


Autoria(s): 邹吕凡; 王占国; 范缇文
Data(s)

1996

Resumo

基于能量最小近似模型,研究了应变异质结外延材料中,产生Frank-Read源以释放失配应力所需GeSi合金缓冲层的厚度。对Ge_xSi_(1-x)/Si进行了具体计算,其结果表明:产生Frank-Read源时缓冲层厚度要比临界厚度大得多,L_(min)=1300A是钉扎点间的最小距离。计算结果与LeGoues等的实验结果相符。就作者所知,计算产生Frank-Read源时GeSi合金缓冲层厚度的工作,以前未见报道。

Identificador

http://ir.semi.ac.cn/handle/172111/19577

http://www.irgrid.ac.cn/handle/1471x/104426

Idioma(s)

中文

Fonte

邹吕凡;王占国;范缇文.应变异质结外延材料的缓冲层厚度与Frank-Read源的关系研究,半导体学报,1996,17(3):186

Palavras-Chave #半导体材料
Tipo

期刊论文