Ti和蓝宝石的界面反应
| Data(s) |
1996
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|---|---|
| Resumo |
在超高真空中用电子束蒸发在抛光的(1102)取向的蓝宝石(a-Al_2O_3)衬底上蒸镀500 nm的Ti膜,在恒温炉中退火,然后用XRD(包括一般的和小角度的X射线衍射),AES和SIMS等表面分析技术详细研究了从室温至850℃,Ti与a-Al_2O_3的固相界面反应.首次系统提出了不同反应温区相应的化学反应式,讨论了采用体材料数据作热力学计算来预言Ti/a-Al_2O_3界面反应的局限性. 国家自然科学基金 |
| Identificador | |
| Idioma(s) |
中文 |
| Fonte |
顾诠;王佑祥;崔玉德;陈新;陶琨.Ti和蓝宝石的界面反应,物理学报,1996,45(5):832 |
| Palavras-Chave | #半导体化学 |
| Tipo |
期刊论文 |
