高纯外延GaAs中浅施主杂质的光热电离谱研究

利用光热电离谱技术研究了4.5K下高纯n-GaAs外延材料的远红外光电导响应谱。给出CPE法和VPE法生长的高纯GaAs材料残留浅施主杂质分别是S、Sn和Sn、P等杂质。实验结果表明本所高纯GaAs组采用的LPE生长技术能有效抑制杂质Si和Sn的沾污。