Ge_xSi_（1－x）减压化学气相外延过程的流体力学和表面反应动力学分析

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Autoria(s): 金晓军; 梁骏吾

Data(s)	1997
Identificador	http://ir.semi.ac.cn/handle/172111/19393 http://www.irgrid.ac.cn/handle/1471x/104334
Idioma(s)	中文
Fonte	金晓军;梁骏吾.Ge_xSi_（1－x）减压化学气相外延过程的流体力学和表面反应动力学分析,电子学报,1997,25(8):14
Palavras-Chave	#半导体化学
Tipo	期刊论文