中子辐照GaAs的沟道卢瑟福背散射研究


Autoria(s): 刘键; 王佩璇; 柯俊; 朱沛然; 杨峰; 殷士端
Data(s)

1998

Resumo

用沟道RBS方法研究了中子辐照GaAs的缺陷在快速退火过程中的恢复行为。结果表明,在10~(14)~10~(17)/cm~2范围内离位原子浓度近似按辐照剂量量级的平方关系增长。中子辐照效应对ψ_(1/2)没有影响。经一定剂量辐照后,退火温度越高,退火时间越长,离位原子的恢复效果越明显。10~(15)/cm~2剂量辐照损伤的恢复激活能E_1 approx=0.23eV,可能对应空位与迁移而来的填隙原子的复合;而10~(17)/cm~2剂量辐照损伤的恢复激活能E_2 approx=0.13eV,对应空位与其附近的填隙原子的复合。

Identificador

http://ir.semi.ac.cn/handle/172111/19277

http://www.irgrid.ac.cn/handle/1471x/104276

Idioma(s)

中文

Fonte

刘键;王佩璇;柯俊;朱沛然;杨峰;殷士端.中子辐照GaAs的沟道卢瑟福背散射研究,半导体学报,1998,19(9):672

Palavras-Chave #半导体化学
Tipo

期刊论文