低阈值1.3μm InGaAsP/InP应变补偿多量子阱DFB激光器LP-MOCVD生长


Autoria(s): 陈博; 王圩; 汪孝杰; 张静媛; 朱洪亮; 周帆; 王玉田; 马朝华; 张子莹; 刘国利
Data(s)

1998

Resumo

报道了用低压-金属有机化学气相淀积(LP-MOCVD)方法制作1.3μm应变补偿多量子阱结构材料。X射线双晶衍射摇摆曲线可清晰地看到±4级卫星峰和卫星峰间的Pendellosong条纹。整个有源区的平均应变量几乎为零。用掩埋异质结(BH)条形工艺制备的含一级光栅的DFB激光器室温下阈值电流2~4mA,外量子效率0.33mW/mA,线性输出光功率达30mW,边模抑制比(SMSR)大于35dB。20~40℃下的特征温度T_0为67K。

Identificador

http://ir.semi.ac.cn/handle/172111/19229

http://www.irgrid.ac.cn/handle/1471x/104252

Idioma(s)

中文

Fonte

陈博;王圩;汪孝杰;张静媛;朱洪亮;周帆;王玉田;马朝华;张子莹;刘国利.低阈值1.3μm InGaAsP/InP应变补偿多量子阱DFB激光器LP-MOCVD生长,半导体学报,1998,19(3):218

Palavras-Chave #半导体材料
Tipo

期刊论文