CoSi2超薄外延膜的生长研究
| Data(s) |
1998
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| Resumo |
于2010-11-23批量导入 zhangdi于2010-11-23 13:12:15导入数据到SEMI-IR的IR Made available in DSpace on 2010-11-23T05:12:15Z (GMT). No. of bitstreams: 1 5697.pdf: 210915 bytes, checksum: 85ddeadd74d1a23c6f5fa03b15c19e95 (MD5) Previous issue date: 1998 国家八五计划 中科院半导体所;北京大学微电子所 国家八五计划 |
| Identificador | |
| Idioma(s) |
中文 |
| Fonte |
姚振钰;张国炳;秦复光;刘志凯;张建辉;林兰英.CoSi2超薄外延膜的生长研究,半导体学报,1998,19(3):221 |
| Palavras-Chave | #半导体材料 |
| Tipo |
期刊论文 |
