X射线回摆曲线定量检测SI-GaAs势光晶片的亚表面损伤层厚度
Data(s) |
1998
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Resumo |
通过测量SI-GaAs抛光晶片及其本体(腐蚀了晶片的亚表面损伤层)的X射线回摆曲线FWHM,与抛光晶片的TEM观测相结合,作出晶片回摆曲线FWHM的比率R与TEM观测的晶征亚表面损伤层厚度D的关系曲线,建立了一种定量检测SI-GaAa抛光晶片的片表面损伤层厚度技术,文中将对这种技术进行描述并作讨论。 |
Identificador | |
Idioma(s) |
中文 |
Fonte |
曹福年;卜俊鹏;吴让元;郑红军;惠峰;白玉珂;刘明焦;何宏家.X射线回摆曲线定量检测SI-GaAs势光晶片的亚表面损伤层厚度,半导体学报,1998,19(8):635 |
Palavras-Chave | #半导体材料 |
Tipo |
期刊论文 |