GS-MBE生长的GaP/Si的XPS研究


Autoria(s): 吴正龙; 余金中; 成步文; 于卓; 李晓文; 王启明
Data(s)

1998

Resumo

利用X射线光电子能谱(XPS)深度剖析方法对气体源分子束外延(GS-MBE)生长的GaP/Si异质结构进行了详细的分析。其结果表明

Identificador

http://ir.semi.ac.cn/handle/172111/19179

http://www.irgrid.ac.cn/handle/1471x/104227

Idioma(s)

中文

Fonte

吴正龙;余金中;成步文;于卓;李晓文;王启明.GS-MBE生长的GaP/Si的XPS研究,发光学报,1998,19(2):109

Palavras-Chave #光电子学
Tipo

期刊论文