半导体SiC材料的外延生长


Autoria(s): 王引书; 李晋闽; 林兰英
Data(s)

1998

Resumo

SiC具有禁带宽度大、热导率高、电子的饱和漂移速度大、临界击穿电场高和介电常数低等特点, 在高频、大功率、耐高温、抗辐照的半导体器件及紫外探测器和短波发光二极管等方面具有广泛的应用前景。本文简要介绍SiC半导体材料的液相外延、化学气相和分子束外延生长的概况及生长过程中杂质的控制。

Identificador

http://ir.semi.ac.cn/handle/172111/19165

http://www.irgrid.ac.cn/handle/1471x/104220

Idioma(s)

中文

Fonte

王引书;李晋闽;林兰英.半导体SiC材料的外延生长,高技术通讯,1998,8(7):59

Palavras-Chave #半导体材料
Tipo

期刊论文