用拉伸和二次曝光法制作基于莫阿光纤光栅的带通滤波器
| Data(s) |
1998
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| Resumo |
利用一块均匀掩膜版，通过对光纤拉伸和二次紫外曝光的方法制作了一基于莫阿-布喇格光纤光栅的带通滤波器，其带通宽度为0.28nm。对这种方法制作的莫阿-布喇格光栅作了理论分析。在此文中，还给出了均匀光纤光栅的拉伸特性。 利用一块均匀掩膜版，通过对光纤拉伸和二次紫外曝光的方法制作了一基于莫阿-布喇格光纤光栅的带通滤波器，其带通宽度为0.28nm。对这种方法制作的莫阿-布喇格光栅作了理论分析。在此文中，还给出了均匀光纤光栅的拉伸特性。 于2010-11-23批量导入 zhangdi于2010-11-23 13:11:53导入数据到SEMI-IR的IR Made available in DSpace on 2010-11-23T05:11:53Z (GMT). No. of bitstreams: 1 5658.pdf: 319142 bytes, checksum: 217a440ea9a526b86f44bf0cb9c122b1 (MD5) Previous issue date: 1998 中科院半导体所 |
| Identificador | |
| Idioma(s) |
中文 |
| Fonte |
周凯明;安贵仁;葛璜;王圩.用拉伸和二次曝光法制作基于莫阿光纤光栅的带通滤波器,光子学报,1998,27(9):828 |
| Palavras-Chave | #半导体器件 |
| Tipo |
期刊论文 |
