Al_2O_3/Si(001)衬底上GaN外延薄膜的制备


Autoria(s): 汪连山; 刘祥林; 昝育德; 汪度; 王俊; 陆大成; 王占国
Data(s)

1998

Resumo

于2010-11-23批量导入

zhangdi于2010-11-23 13:11:36导入数据到SEMI-IR的IR

Made available in DSpace on 2010-11-23T05:11:36Z (GMT). No. of bitstreams: 1 5617.pdf: 215939 bytes, checksum: 5287859692b3af3794a9f0213b7a8ff0 (MD5) Previous issue date: 1998

国家863计划,国家八五计划

中科院半导体所

国家863计划,国家八五计划

Identificador

http://ir.semi.ac.cn/handle/172111/19067

http://www.irgrid.ac.cn/handle/1471x/104171

Idioma(s)

中文

Fonte

汪连山;刘祥林;昝育德;汪度;王俊;陆大成;王占国.Al_2O_3/Si(001)衬底上GaN外延薄膜的制备,中国科学. E辑,技术科学 ,1998,28(1):32

Palavras-Chave #半导体材料
Tipo

期刊论文