Ni?莫来石界面反应的XPS研究


Autoria(s): 陈新; 王佑祥; 谢侃; 陈春华; 刘振祥; 刘志平; 高尚通
Data(s)

1996

Resumo

国家自然科学基金

Identificador

http://ir.semi.ac.cn/handle/172111/19015

http://www.irgrid.ac.cn/handle/1471x/104145

Idioma(s)

中文

Fonte

陈新;王佑祥;谢侃;陈春华;刘振祥;刘志平;高尚通.Ni?莫来石界面反应的XPS研究,清华大学学报. 自然科学版,1996,36(增刊):75

Palavras-Chave #半导体材料
Tipo

期刊论文