质子注入平面掩埋条形高频DFB激光器


Autoria(s): 刘国利; 张佰君; 朱洪亮; 张静媛; 汪孝杰; 王圩
Data(s)

2000

Resumo

报道了采用质子注入制作平面掩埋条形高频DFB激光器。质子注入提高了限制层对电流的限制作用,并减小了限制层的寄生电容;DFB激光器的斜率效率由注入前的0.147mW/mA提高到0.216mW/mA;电容测试结果表明

报道了采用质子注入制作平面掩埋条形高频DFB激光器。质子注入提高了限制层对电流的限制作用,并减小了限制层的寄生电容;DFB激光器的斜率效率由注入前的0.147mW/mA提高到0.216mW/mA;电容测试结果表明

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国家自然科学基金,国家863计划

中科院半导体所国家光电子工艺中心

国家自然科学基金,国家863计划

Identificador

http://ir.semi.ac.cn/handle/172111/18985

http://www.irgrid.ac.cn/handle/1471x/104130

Idioma(s)

中文

Fonte

刘国利;张佰君;朱洪亮;张静媛;汪孝杰;王圩.质子注入平面掩埋条形高频DFB激光器,半导体光电,2000,21(4):245

Palavras-Chave #半导体器件
Tipo

期刊论文