金属/绝缘层/硅(MIS)隧道二极管的发光机理


Autoria(s): 俞建华; 孙承休; 高中林; 魏同立; 王启明
Data(s)

1999

Resumo

金属/绝缘层/硅(MIS)隧道发光二极管的发光机理可以归结为表面等离极化激元(SPP)与界面粗糙度的耦合。电流-电压特性曲线中6.5V附近的一个负阻和发射光谱中475nm的峰显示,在硅/二氧化硅界面激发起了与之相应的等离子体振荡。

国家自然科学基金

Identificador

http://ir.semi.ac.cn/handle/172111/18929

http://www.irgrid.ac.cn/handle/1471x/104102

Idioma(s)

中文

Fonte

俞建华;孙承休;高中林;魏同立;王启明.金属/绝缘层/硅(MIS)隧道二极管的发光机理,半导体学报,1999,20(5):421

Palavras-Chave #光电子学
Tipo

期刊论文