ECR Plasma CVD法淀积808nm大功率半导体激光器光学膜工艺研究

介绍了电子回旋共振等离子体化学气相沉积(简称ECR Plasma CVD)法淀积808nm大功率半导体激光器两端面光学膜的工艺，给出工艺条件，探索了膜系监控的方法和优越性，讨论了这种淀积方法的优点和淀积的光学膜的优良特性。