ECR Plasma CVD法淀积介质膜技术在半导体光电器件中的应用
| Data(s) |
1999
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| Resumo |
电子回旋共振等离子体化学气相淀积(ECR Plasma CVD)法淀积介质膜技术是制备性能优良的光电子器件光学膜和电介质膜的重要手段之一。该文报道了ECR Plamsa CVD法淀积介质膜的工艺以及介质膜的特性等。 电子回旋共振等离子体化学气相淀积(ECR Plasma CVD)法淀积介质膜技术是制备性能优良的光电子器件光学膜和电介质膜的重要手段之一。该文报道了ECR Plamsa CVD法淀积介质膜的工艺以及介质膜的特性等。 于2010-11-23批量导入 zhangdi于2010-11-23 13:11:00导入数据到SEMI-IR的IR Made available in DSpace on 2010-11-23T05:11:00Z (GMT). No. of bitstreams: 1 5488.pdf: 268157 bytes, checksum: a9afec13ee84ea1ae7fa132e4f87b5aa (MD5) Previous issue date: 1999 中科院半导体所 |
| Identificador | |
| Idioma(s) |
中文 |
| Fonte |
茅冬生;谭满清.ECR Plasma CVD法淀积介质膜技术在半导体光电器件中的应用,半导体学报,1999,20(9):837 |
| Palavras-Chave | #半导体化学 |
| Tipo |
期刊论文 |
