ECR Plasma CVD淀积介质膜折射率的神经网络模拟
| Data(s) |
1999
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|---|---|
| Resumo |
用人工神经网络方法对电子回旋共振等离子法化学气相沉积(ECR Plasma CVD)镀膜工艺建立了一个介质膜折射率n关于气流配比Q(N_2)/Q(SiH_4)和Q(Q_2)/Q(SiH_4)的数学模型。在给定气流配比Q(N_2)/Q(SiH_4)和Q(O_2)/Q(SiH_4)时模型预测的成膜折射率与实验值符合得很好。 用人工神经网络方法对电子回旋共振等离子法化学气相沉积(ECR Plasma CVD)镀膜工艺建立了一个介质膜折射率n关于气流配比Q(N_2)/Q(SiH_4)和Q(Q_2)/Q(SiH_4)的数学模型。在给定气流配比Q(N_2)/Q(SiH_4)和Q(O_2)/Q(SiH_4)时模型预测的成膜折射率与实验值符合得很好。 于2010-11-23批量导入 zhangdi于2010-11-23 13:10:55导入数据到SEMI-IR的IR Made available in DSpace on 2010-11-23T05:10:56Z (GMT). No. of bitstreams: 1 5472.pdf: 328209 bytes, checksum: b30803df5c7e36598a1a4660e2d91627 (MD5) Previous issue date: 1999 国家863计划 中科院半导体所 国家863计划 |
| Identificador | |
| Idioma(s) |
中文 |
| Fonte |
李玉鉴;谭满清;茅冬生;陆建祖.ECR Plasma CVD淀积介质膜折射率的神经网络模拟,半导体学报,1999,20(12):1109 |
| Palavras-Chave | #光电子学 |
| Tipo |
期刊论文 |
