掺杂nc-Si∶H膜的电导特性


Autoria(s): 彭英才; 刘明; 何宇亮; 李月霞
Data(s)

2000

Resumo

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河北大学电子信息工程学院;中科院微电子中心;北京航空航天大学材料物理与化学研究中心;中科院半导体所

Identificador

http://ir.semi.ac.cn/handle/172111/18811

http://www.irgrid.ac.cn/handle/1471x/104043

Idioma(s)

中文

Fonte

彭英才;刘明;何宇亮;李月霞.掺杂nc-Si∶H膜的电导特性,半导体学报,2000,21(3):308

Palavras-Chave #半导体材料
Tipo

期刊论文