高压 Ti/ 6H- SiC肖特基势垒二极管(英文)


Autoria(s): 王姝睿; 刘忠立; 李国花; 于芳; 刘焕章
Data(s)

2001

Resumo

在N型6H-SiC外延片上,通过热蒸发,制作Ti/6H-SiC肖特基势垒二极管(SBD)。通过化学气相淀积,进行同质外延生长,详细测量并分析了肖特基二极管的电学特性,该肖特基二极管具有较好的整流特性。反向击穿电压约为400V,室温下,反向电压V_R=200V时,反向漏电流J_R低于1×10~(-4)A/cm~2。采用Ne离子注入形成非晶层,作为边缘终端,二极管的击穿电压增加到约为800V。

Identificador

http://ir.semi.ac.cn/handle/172111/18653

http://www.irgrid.ac.cn/handle/1471x/103964

Idioma(s)

中文

Fonte

王姝睿;刘忠立;李国花;于芳;刘焕章.高压 Ti/ 6H- SiC肖特基势垒二极管(英文),半导体学报,2001,22(8):962

Palavras-Chave #微电子学
Tipo

期刊论文