RF-MBE生长AlGaN/GaN极化感应二维电子气材料


Autoria(s): 孙殿照; 胡国新; 王晓亮; 刘宏新; 刘成海; 曾一平; 李晋闽; 林兰英
Data(s)

2001

Resumo

用射频等离子体辅助分子束外延技术(RF-MBE)在C面蓝宝石衬底上外延了高质量的GaN膜以及AlGaN/GaN极化感应二维电子气材料。所外延的GaN膜室温背景电子浓度为2×10~(17)cm~(-3),相应的电子迁移率为177cm~2/(V·s);GaN(0002)X射线衍射摇摆曲线半高宽(FWHM)为6';AlGaN/GaN极化感应二维电子气材料的室温电子迁移率为730cm~2(V·s),相应的电子气面密度为7.6×10~(12)cm~(-2);用此二维电子气材料制作的异质结场效应晶体管(HFET)室温跨导达50mS/mm(栅长1μm),截止频率达13GHz(栅长0.5μm)。

用射频等离子体辅助分子束外延技术(RF-MBE)在C面蓝宝石衬底上外延了高质量的GaN膜以及AlGaN/GaN极化感应二维电子气材料。所外延的GaN膜室温背景电子浓度为2×10~(17)cm~(-3),相应的电子迁移率为177cm~2/(V·s);GaN(0002)X射线衍射摇摆曲线半高宽(FWHM)为6';AlGaN/GaN极化感应二维电子气材料的室温电子迁移率为730cm~2(V·s),相应的电子气面密度为7.6×10~(12)cm~(-2);用此二维电子气材料制作的异质结场效应晶体管(HFET)室温跨导达50mS/mm(栅长1μm),截止频率达13GHz(栅长0.5μm)。

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中科院半导体所

Identificador

http://ir.semi.ac.cn/handle/172111/18619

http://www.irgrid.ac.cn/handle/1471x/103947

Idioma(s)

中文

Fonte

孙殿照;胡国新;王晓亮;刘宏新;刘成海;曾一平;李晋闽;林兰英.RF-MBE生长AlGaN/GaN极化感应二维电子气材料,半导体学报,2001,22(11):1425

Palavras-Chave #光电子学
Tipo

期刊论文