RF-MBE生长AlGaN/GaN极化感应二维电子气材料
Data(s) |
2001
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Resumo |
用射频等离子体辅助分子束外延技术(RF-MBE)在C面蓝宝石衬底上外延了高质量的GaN膜以及AlGaN/GaN极化感应二维电子气材料。所外延的GaN膜室温背景电子浓度为2×10~(17)cm~(-3),相应的电子迁移率为177cm~2/(V·s);GaN(0002)X射线衍射摇摆曲线半高宽(FWHM)为6';AlGaN/GaN极化感应二维电子气材料的室温电子迁移率为730cm~2(V·s),相应的电子气面密度为7.6×10~(12)cm~(-2);用此二维电子气材料制作的异质结场效应晶体管(HFET)室温跨导达50mS/mm(栅长1μm),截止频率达13GHz(栅长0.5μm)。 用射频等离子体辅助分子束外延技术(RF-MBE)在C面蓝宝石衬底上外延了高质量的GaN膜以及AlGaN/GaN极化感应二维电子气材料。所外延的GaN膜室温背景电子浓度为2×10~(17)cm~(-3),相应的电子迁移率为177cm~2/(V·s);GaN(0002)X射线衍射摇摆曲线半高宽(FWHM)为6';AlGaN/GaN极化感应二维电子气材料的室温电子迁移率为730cm~2(V·s),相应的电子气面密度为7.6×10~(12)cm~(-2);用此二维电子气材料制作的异质结场效应晶体管(HFET)室温跨导达50mS/mm(栅长1μm),截止频率达13GHz(栅长0.5μm)。 于2010-11-23批量导入 zhangdi于2010-11-23 13:10:20导入数据到SEMI-IR的IR Made available in DSpace on 2010-11-23T05:10:20Z (GMT). No. of bitstreams: 1 5357.pdf: 217636 bytes, checksum: 610397c43fdbf86ad34dbebbebfb00e1 (MD5) Previous issue date: 2001 中科院半导体所 |
Identificador | |
Idioma(s) |
中文 |
Fonte |
孙殿照;胡国新;王晓亮;刘宏新;刘成海;曾一平;李晋闽;林兰英.RF-MBE生长AlGaN/GaN极化感应二维电子气材料,半导体学报,2001,22(11):1425 |
Palavras-Chave | #光电子学 |
Tipo |
期刊论文 |