高温热退火时异质结薄膜CeO_2/Si界面扩散-反应的机理研究


Autoria(s): 吴正龙; 杨锡震; 李强胜; 黄大定
Data(s)

1999

Resumo

国家自然科学基金

Identificador

http://ir.semi.ac.cn/handle/172111/18593

http://www.irgrid.ac.cn/handle/1471x/103934

Idioma(s)

中文

Fonte

吴正龙;杨锡震;李强胜;黄大定.高温热退火时异质结薄膜CeO_2/Si界面扩散-反应的机理研究,北京师范大学学报. 自然科学版,1999(3,332(0):

Palavras-Chave #半导体材料
Tipo

期刊论文