掺铒SiO_x1.54μm强的室温光致发光


Autoria(s): 陈维德; 马智训; 许振嘉; 何杰; 顾诠; 梁建军
Data(s)

1999

Resumo

采用等离子化学汽相淀积方法,改变SiH_4和N_2O的流量比制备含有不同氧浓度的SiO_x。用离子注入方法将铒掺入SiO_x,经300~935℃快速热退火,在波长1.54μ处观察到很强的室温光致发光(PL)。发光强度随氧含量和激发功率增加而增加,与SiO_x的微结构有非常密切的关系。对可能的发光机理进行了讨论。

国家自然科学基金

Identificador

http://ir.semi.ac.cn/handle/172111/18537

http://www.irgrid.ac.cn/handle/1471x/103906

Idioma(s)

中文

Fonte

陈维德;马智训;许振嘉;何杰;顾诠;梁建军.掺铒SiO_x1.54μm强的室温光致发光,发光学报,1999,20(1):55

Palavras-Chave #半导体材料
Tipo

期刊论文