缀饰激子在半导体微腔中的辐射


Autoria(s): 刘世安; 林世鸣; 康学军; 张光斌; 程澎; 王启明
Data(s)

2000

Resumo

建立了半导体微腔的缀饰激子模型。在VCSEL器件量子阱中的激子首先通过内电磁场与腔耦合,形成缀饰态。而后作为多粒子过程,缀饰激子与腔内真空场耦合产生辐射。通过QED方法,得到偶极子辐射密度方程和系统能量衰变方程。

国家自然科学基金,国家863计划,国家863计划

Identificador

http://ir.semi.ac.cn/handle/172111/18493

http://www.irgrid.ac.cn/handle/1471x/103884

Idioma(s)

中文

Fonte

刘世安;林世鸣;康学军;张光斌;程澎;王启明.缀饰激子在半导体微腔中的辐射,光电子·激光,2000,11(3):221

Palavras-Chave #光电子学
Tipo

期刊论文