ECR Plasma CVD淀积光电器件介质膜的工艺模拟
| Data(s) |
2000
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| Resumo |
于2010-11-23批量导入 zhangdi于2010-11-23 13:09:43导入数据到SEMI-IR的IR Made available in DSpace on 2010-11-23T05:09:44Z (GMT). No. of bitstreams: 1 5272.pdf: 328523 bytes, checksum: 5045d2f83a4e3de6d265b26d88fa6e98 (MD5) Previous issue date: 2000 国家863计划 中科院半导体所工程中心 国家863计划 |
| Identificador | |
| Idioma(s) |
中文 |
| Fonte |
谭满清;陆建祖;李玉鉴.ECR Plasma CVD淀积光电器件介质膜的工艺模拟,功能材料与器件学报,2000,6(3):248 |
| Palavras-Chave | #半导体器件 |
| Tipo |
期刊论文 |
