反应离子刻蚀工艺仿真模型的研究
| Data(s) |
2000
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|---|---|
| Resumo |
以SF_6/N_2混合气体对Si反应离子刻蚀工艺研究为例提出干法刻蚀计算机工艺模拟的方法 以SF_6/N_2混合气体对Si反应离子刻蚀工艺研究为例提出干法刻蚀计算机工艺模拟的方法 于2010-11-23批量导入 zhangdi于2010-11-23 13:09:36导入数据到SEMI-IR的IR Made available in DSpace on 2010-11-23T05:09:36Z (GMT). No. of bitstreams: 1 5258.pdf: 367185 bytes, checksum: 12db9072138d80cb07c48d7d846e1d5e (MD5) Previous issue date: 2000 国家863计划 中国科学院半导体所 国家863计划 |
| Identificador | |
| Idioma(s) |
中文 |
| Fonte |
陆建祖;魏红振;李玉鉴;张永刚;林世鸣;余金中;刘忠立.反应离子刻蚀工艺仿真模型的研究,功能材料与器件学报,2000,6(4):420 |
| Palavras-Chave | #微电子学 |
| Tipo |
期刊论文 |
