CeO_2/Si薄膜PL谱的“紫移”


Autoria(s): 柴春林; 杨少延; 刘志凯; 廖梅勇; 陈诺夫; 王占国
Data(s)

2001

Resumo

利用双离子束外延技术制备了CeO_2/Si薄膜,椭圆偏振仪测得薄膜厚度为100nm,折射系数约为2.455。实验中发现未经退火处理的CeO_2室温光致发光(PL)谱存在着“紫移”现象,其移动距离约为65nm。利用XRD和XPS对薄膜结构及价态进行分析后表明,PL谱的移动与氧化物中Ce离子价态有关。当Ce离子价态发生Ce~(4+)→Ce~(3+)变化时,其PL谱峰位要从蓝光区向紫光区移动,出现发光峰“紫峰”现象。

利用双离子束外延技术制备了CeO_2/Si薄膜,椭圆偏振仪测得薄膜厚度为100nm,折射系数约为2.455。实验中发现未经退火处理的CeO_2室温光致发光(PL)谱存在着“紫移”现象,其移动距离约为65nm。利用XRD和XPS对薄膜结构及价态进行分析后表明,PL谱的移动与氧化物中Ce离子价态有关。当Ce离子价态发生Ce~(4+)→Ce~(3+)变化时,其PL谱峰位要从蓝光区向紫光区移动,出现发光峰“紫峰”现象。

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国家973计划

中科院半导体所

国家973计划

Identificador

http://ir.semi.ac.cn/handle/172111/18293

http://www.irgrid.ac.cn/handle/1471x/103784

Idioma(s)

中文

Fonte

柴春林;杨少延;刘志凯;廖梅勇;陈诺夫;王占国.CeO_2/Si薄膜PL谱的“紫移”,科学通报,2001,46(18):1511

Palavras-Chave #半导体材料
Tipo

期刊论文