用PECVD在低温衬底上制备类金刚石碳膜(英文)
| Data(s) |
2000
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| Resumo |
报道用RF PECVD在低温衬底上制备了类金刚石碳(DLC)膜。研究了氢稀释、气体压力和RF功率对薄膜性质的影响。用光透射率、红外吸收谱和小角度X射线衍射谱分析了DLC膜的结构和光学性质。 报道用RF PECVD在低温衬底上制备了类金刚石碳(DLC)膜。研究了氢稀释、气体压力和RF功率对薄膜性质的影响。用光透射率、红外吸收谱和小角度X射线衍射谱分析了DLC膜的结构和光学性质。 于2010-11-23批量导入 zhangdi于2010-11-23 13:09:06导入数据到SEMI-IR的IR Made available in DSpace on 2010-11-23T05:09:06Z (GMT). No. of bitstreams: 1 5190.pdf: 285629 bytes, checksum: 9ca5de00781504d146ca58993507602f (MD5) Previous issue date: 2000 Toledo大学物理天文系;中科院半导体所 |
| Identificador | |
| Idioma(s) |
中文 |
| Fonte |
廖显伯;邓勋明.用PECVD在低温衬底上制备类金刚石碳膜(英文),人工晶体学报,2000,29(3):220 |
| Palavras-Chave | #半导体材料 |
| Tipo |
期刊论文 |
