共溅射和离子注入制备的SiO_2(Eu)薄膜中Eu~(3+)到Eu~(2+)的转变


Autoria(s): 刘丰珍; 朱美芳; 刘涛; 李秉程
Data(s)

2001

Resumo

采用共溅射方法和Eu离子注入热生长的SiO_2方法得到SiO_2(Eu)薄膜,Eu离子的浓度为4%和0.5%。对样品X射线吸收近边结构(XANES)的研究和分析表明,在高温氮气中发生了Eu~(3+)向Eu~(2+)的转变。SiO_2(Eu)薄膜高温氮气退火下蓝光的发射证明了这一结论。

采用共溅射方法和Eu离子注入热生长的SiO_2方法得到SiO_2(Eu)薄膜,Eu离子的浓度为4%和0.5%。对样品X射线吸收近边结构(XANES)的研究和分析表明,在高温氮气中发生了Eu~(3+)向Eu~(2+)的转变。SiO_2(Eu)薄膜高温氮气退火下蓝光的发射证明了这一结论。

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中国科学技术大学研究生院物理系;中科院高能物理所;中科院半导体所

Identificador

http://ir.semi.ac.cn/handle/172111/18241

http://www.irgrid.ac.cn/handle/1471x/103758

Idioma(s)

中文

Fonte

刘丰珍;朱美芳;刘涛;李秉程.共溅射和离子注入制备的SiO_2(Eu)薄膜中Eu~(3+)到Eu~(2+)的转变,物理学报,2001,50(3):532

Palavras-Chave #半导体材料
Tipo

期刊论文