共溅射和离子注入制备的SiO_2(Eu)薄膜中Eu~(3+)到Eu~(2+)的转变
Data(s) |
2001
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Resumo |
采用共溅射方法和Eu离子注入热生长的SiO_2方法得到SiO_2(Eu)薄膜,Eu离子的浓度为4%和0.5%。对样品X射线吸收近边结构(XANES)的研究和分析表明,在高温氮气中发生了Eu~(3+)向Eu~(2+)的转变。SiO_2(Eu)薄膜高温氮气退火下蓝光的发射证明了这一结论。 采用共溅射方法和Eu离子注入热生长的SiO_2方法得到SiO_2(Eu)薄膜,Eu离子的浓度为4%和0.5%。对样品X射线吸收近边结构(XANES)的研究和分析表明,在高温氮气中发生了Eu~(3+)向Eu~(2+)的转变。SiO_2(Eu)薄膜高温氮气退火下蓝光的发射证明了这一结论。 于2010-11-23批量导入 zhangdi于2010-11-23 13:08:55导入数据到SEMI-IR的IR Made available in DSpace on 2010-11-23T05:08:55Z (GMT). No. of bitstreams: 1 5168.pdf: 232537 bytes, checksum: c422a69893557cd0b8a98f27730ee223 (MD5) Previous issue date: 2001 中国科学技术大学研究生院物理系;中科院高能物理所;中科院半导体所 |
Identificador | |
Idioma(s) |
中文 |
Fonte |
刘丰珍;朱美芳;刘涛;李秉程.共溅射和离子注入制备的SiO_2(Eu)薄膜中Eu~(3+)到Eu~(2+)的转变,物理学报,2001,50(3):532 |
Palavras-Chave | #半导体材料 |
Tipo |
期刊论文 |